Produkty

Študovali sme dusíkom dopovanú nanokarbónovú filmovú elektródu s koncentráciou dusíka nižšou ako 10,9 at% vytvorenú metódou nevyváženého magnetrónového naprašovania (UBM).Obsah sp(3) v dusíkom dopovanom UBM naprašovacom nanokarbónovom filme (N-UBM film) sa mierne zvyšuje so zvyšujúcou sa koncentráciou dusíka.Väzba podobná grafitu s obsahom dusíka klesá a väzba podobná pyridínu sa zvyšuje so zvyšujúcou sa koncentráciou dusíka.Fólia N-UBM má veľmi hladký povrch s priemernou drsnosťou 0,1 až 0,3 nm, ktorá je takmer nezávislá od koncentrácie dusíka.N-UBM filmová elektróda vykazuje širšie potenciálne okno (4,1 V) ako čistá UBM filmová elektróda (3,9 V) v dôsledku mierneho zvýšenia obsahu sp(3).Elektrokatalytická aktivita sa zvyšovala so zvyšujúcou sa koncentráciou dusíka, čo naznačuje, že elektroaktivita je maximálna, keď je koncentrácia dusíka okolo 10,9 at%, čo je potvrdené maximálnou separáciou Fe(CN)6(4-).Potenciály redukcie peroxidu vodíka (H2O2) na filmovej elektróde N-UBM sa posunuli približne o 0,1 V a špičkový prúd H2O2 sa zvýšil približne 4-krát.